Электроразрядный плазменно-вихревой источник оптического излучения

Изобретение относится к плазменной технике и может быть использовано для создания высокояркостных источников оптического излучения.

Схема

Техническим результатом является повышение КПД и расширение функциональных возможностей при упрощении конструкции. Указанный технический результат достигается за счет того, что в электроразрядном плазменно-вихревом источнике оптического излучения с зарядным устройством, емкостным накопителем, управляемым разрядником и двумя электродами у капиллярного отверстия в плоском изоляторе, в капиллярном отверстии установлена цилиндрическая токопроводящая трубка из плазмообразующего вещества, второй электрод выполнен в виде кольца, причем оба электрода установлены в электрическом контакте с токопроводящей втулкой, а конструктивные параметры устройства удовлетворяют расчетным соотношениям, связывающим емкость накопителя, напряжение заряда емкостного накопителя, массу и теплофизические параметры плазмообразующего вещества, диаметр и длину капиллярного отверстия в плоском изоляторе и индуктивность разрядного контура.

Электроразрядный плазменно-вихревой источник оптического излучения, содержащий зарядное устройство, емкостный накопитель, управляемый разрядник, два электрода, размещенных у капиллярного отверстия в плоском изоляторе, один из них выполнен в виде заглушки, при этом емкостный накопитель, электроды и управляемый разрядник электрически соединены между собой так, что образуют разрядный контур, отличающийся тем, что в

Соотношение

капиллярном отверстии установлена цилиндрическая токопроводящая трубка из плазмообразуюшего вещества, второй электрод выполнен в виде кольца, причем оба электрода установлены в электрическом контакте с токопроводящей втулкой, а конструктивные параметры устройства удовлетворяют соотношениям

по материалам сайта http://www1.fips.ru/

• Передача сигнализации произвольного доступа для доступа к системе беспроводной связи
• Система и способ для приготовления пищи
• Способ подавления параметрической неустойчивости неоднородной плазмы и устройство для его реализации